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제품 프로필
커스터마이징
사용 가능CAS 번호
27804-64-4공식
C8h22n2si모델 번호.
C8h22n2siEINECS
631-070-6인증
범위환경 보호
네외관
액체색
화이트규격
200L등록상표
zyd원산지
Shanghai주요 특징
저온 ALD: 하프늄 실리케이트 박막의 저온 원자층 증착에 적합합니다.
뛰어난 조절 가능성: HfSiOx 박막의 조성 비율을 정밀하게 조절할 수 있습니다.
다양한 박막 증착: 오존을 사용하여 SiO2, HfO2 또는 HfSiOx 박막의 ALD 공정에 활용됩니다.
빠른 가수분해 반응: 습기, 물 및 양성자성 용매와 빠르게 반응합니다.
REACH 인증: 제품은 REACH 인증을 획득했으며, 환경 보호 기준을 충족합니다.
회사 프로필

Shanghai Zhongyida New Materials Co., LtdShanghai, 중국
인증됨사업 유형: 무역 회사수출 연도: 2024-07-23가장 가까운 항구: Shanghai평균 응답 시간: ≤5.90h지불 조건: LC, T/T, D/P국제 상거래 조건(인코텀즈): FOB, EXW, CIF, DDP
우리 공장 및 비즈니스 배경 소개
주소Shanghai, China
등록 자본10,000,000 RMB
평균 리드 타임성수기 리드 타임: 1-3개월, 비수기 리드 타임, 1-3개월
우리의 생산 능력과 기술력
주요 상품반도체 가스, 의료 가스, 산업 가스, 전구체, 특수 가스, 희귀 가스, 제논 가스, 헬륨 가스, N2o
우리의 업계 능력과 글로벌 비지니스 실적
설립 연도2011-03-16
주요 시장북아메리카, 동유럽, 동남아시아, 동아시아, 서유럽, 중동, 남아메리카, 아프리카
제품 Q&A
Q:이 제품은 저온 ALD(원자층 증착)에 적합합니까?
A:
네, 이 제품은 저온 원자층 증착을 위한 액상 실리콘 전구체로 연구 및 평가되고 있습니다.
Q:이 전구체를 사용하여 어떤 박막을 형성할 수 있습니까?
A:
오존과 함께 사용하면 SiO2, HfO2 또는 HfSiOx 박막을 형성하는 데 적합합니다.
Q:BDEAS는 습기와 어떻게 반응합니까?
A:
BDEAS는 습기, 물 및 양성자성 용매와 빠르게 반응합니다.
Q:이 제품이 환경 기준을 충족합니까?
A:
네, 이 제품은 REACH 인증을 받았으며 환경 보호 요구 사항을 충족합니다.
Q:이 전구체의 CAS(화학 물질 등록 번호)는 무엇입니까?
A:
CAS 번호는 27804-64-4입니다.
문의 보내기
*에:
Shanghai Zhongyida New Materials Co., Ltd
Shanghai Zhongyida New Materials Co., Ltd*콘텐츠:
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